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半導(dǎo)體晶片溫度控制中制冷原理說明

 更新時間:2018-10-19 點擊量:1880

  半導(dǎo)體晶片溫度控制是目前針對半導(dǎo)體行業(yè)所推出的控溫設(shè)備,無錫冠亞半導(dǎo)體晶片溫度控制采用全密閉循環(huán)系統(tǒng)進(jìn)行制冷加熱,制冷加熱的溫度不同,型號也是不同,同時,在選擇的時候,也需要注意制冷原理。

  半導(dǎo)體晶片溫度控制制冷系統(tǒng)運(yùn)行中是使用某種工質(zhì)的狀態(tài)轉(zhuǎn)變,從較低溫度的熱源汲取必需的熱量Q0,通過一個消費(fèi)功W的積蓄過程,向較熱帶度的熱源發(fā)出熱量Qk。在這一過程中,由能量守恒取 Qk=Q0 + W。為了實現(xiàn)半導(dǎo)體晶片溫度控制能量遷移,之初強(qiáng)制有使制冷劑能達(dá)到比低溫環(huán)境介質(zhì)更低的溫度的過程,并連續(xù)不斷地從被冷卻物體汲取熱量,在制冷技巧的界線內(nèi),實現(xiàn)這一過程有下述幾種根基步驟:相變制冷:使用液體在低溫下的蒸發(fā)過程或固體在低溫下的消溶或升華過程向被冷卻物體汲取熱量。平??照{(diào)器都是這種制冷步驟。氣體膨脹制冷:高壓氣體經(jīng)絕熱膨脹后可達(dá)到較低的溫度,令低壓氣體復(fù)熱可以制冷。氣體渦流制冷:高壓氣體通過渦流管膨脹后可以分別為熱、冷兩股氣流,使用涼氣流的復(fù)熱過程可以制冷。熱電制冷:令直流電通過半導(dǎo)體熱電堆,可以在一端發(fā)生冷效應(yīng),在另一端發(fā)生熱效應(yīng)。

  半導(dǎo)體晶片溫度控制在運(yùn)行過程中,高溫時沒有導(dǎo)熱介質(zhì)蒸發(fā)出來,而且不需要加壓的情況下就可以實現(xiàn)-80190度、-70220度、-88170度、-55250度、-30300度連續(xù)控溫。半導(dǎo)體晶片溫度控制的原理和功能對使用人員來說有諸多優(yōu)勢: 因為只有膨脹腔體內(nèi)的導(dǎo)熱介質(zhì)才和空氣中的氧氣接觸(而且膨脹箱的溫度在常溫到60度之間),可以達(dá)到降低導(dǎo)熱介質(zhì)被氧化和吸收空氣中水分的風(fēng)險。

  半導(dǎo)體晶片溫度控制中制冷原理上如上所示,用戶在操作半導(dǎo)體晶片溫度控制的時候,需要注意其制冷的原理,在了解之后更好的運(yùn)行半導(dǎo)體晶片溫度控制。

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